在正常熔制情况即氧化或中性气氛下如以SiCl4为原料

氢氧焰为热源高温水解气相沉积合成的石英玻璃和以水晶为原料、氢氧焰为热源炼熔制的石英玻璃中大部分羟基呈稳定状态，制品的规格尺寸大的话，即使脱羟基时间再长也很难将其中的羟基全部脱出。通常0.5~1.0mm厚合成和气炼石英玻璃片在真空或干燥的N2、1050℃的脱羟条件下，经过140h以上方可脱出50%左右的羟基，时间再长几乎不再脱出。

而在富氢的还原性气氛下熔制的石英玻璃如以H2为保护性气体的连熔炉熔制的石英玻璃，由于氧缺陷的存在，石英玻璃中的羟基亚稳状态，很容易扩散放出H2，如1~1.5mm厚的炼熔石英玻璃管在真空或流动的干燥N2、1050℃的脱羟条件下，经过2h即可脱出90%以上的羟基。

同样，若在富氢的还原性气氛下合成或气炼的石英玻璃，相同脱羟条件，也可大幅度增加脱羟量。