1、  高远紫外透过：采用气相沉积合成石英玻璃具有很宽的紫外透过率范围，10mm厚的合成石英玻璃在190nm处透过率≥80%。这是因为该类石英玻璃具有很低的金属离子含量，一般金属杂质总含量小于3×10^-6，适宜做紫外光学器件，如：比色皿、光掩模基片等。

2、  高光学均匀性：合成石英玻璃沉积过程是纳米级水合二氧化硅微粉在高温下沉积而成的，颗粒结构很小，各向分布均匀，光学均匀性高。对于50mm的玻璃镜片其光学均匀性可达到10-5~10-6，这是水晶熔炼石英玻璃所不能到达的，适宜做高级光学镜头、通讯光纤等。

3、  优质的耐辐照性能：氢氧焰合成石英玻璃具有很高的耐辐照性能，这是因为它的金属杂质含量低，羟基含量高。可经受大剂量γ射线或中子射线辐照而不变色。可用做航天光学器件。

但合成石英玻璃也有其性能不足：由于该类石英玻璃羟基含量很高，所以在2.73μm处有很大吸收峰，影响其红外光学性能；同时也导致玻璃的耐热性能下降。不过，PCVD(等离子化学气相沉积)工艺制作石英玻璃不存在上述问题，它采用无氢火焰，具有很低的羟基含量，可全光谱透过（190~3000nm），是理想的石英玻璃材料。