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新闻详情
脱羟工艺有三种形式：①在空气中进行煅烧，因为空气中含水，所以只能清除亚稳定羟基，脱羟装备可采用隧道窑，推板窑或者箱式电炉，电加热，最高温度1000℃，脱羟后残留稳定性羟基含量在20×10-6左右；②在脱羟炉中通高纯N2[N2经过提纯，含水量为（1~2）×10-6]，脱羟设备可采用推板式电炉和箱式电炉，炉门必须密闭，炉子底部留有进N2口，炉子顶部留有出N2口，整个脱羟过程不断送入高纯N2。最高温度1100℃；③真空脱羟采用扩散泵抽真空，真空度为5×10-3Pa，采用分子泵抽真空，真空度可达1×10-4Pa，炉子性能见下表。
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产品型号 |
炉内尺寸/mm |
最高温度/℃ |
温度均匀性/℃ |
极限真空度/Pa |
热态真空度/Pa |
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L651211-11/ZM |
Φ200×300 |
1200 |
±5 |
5×10-4 |
5×10-3 |
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L651211-13/ZM |
Φ300×400 |
1200 |
±5 |
5×10-4 |
5×10-3 |
|
L12700/ZM |
400×400×600 |
1200 |
±5 |
5×10-4 |
5×10-3 |
|
L12111-10/ZM |
610×610×1000 |
1200 |
±5 |
5×10-4 |
5×10-3 |
|
L12111-18/ZM |
700×700×1000 |
1200 |
±5 |
5×10-4 |
5×10-3 |
|
L12111-14/ZM |
700×800×1600 |
1200 |
±5 |
5×10-4 |
5×10-3 |
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L12111-37/ZM |
800×1000×3300 |
1200 |
±5 |
5×10-4 |
5×10-3 |
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分子泵 |
350×350×500 |
1200 |
±5 |
5×10-5 |
5×10-4 |
羟基检测设备：采用傅里叶变换红外光谱仪，型号WQF-310/410，测量精度≤1×10-6。
脱羟温度与时间如下：
（1）在空气中煅烧脱羟：可将石英玻璃中亚稳定羟基清楚，脱羟目的为解决在封接石英玻璃是气泡不会长大，脱羟或羟基含量将到20×10-6左右，脱羟温度950℃，保温时间1-2h。产品适用于卤钨等制造。
（2）充N2脱羟工艺：脱羟温度950~1050℃，保温时间15~20h或更长，羟基含量可降到（6~8）×10-6，产品适用于汞灯制造。
（3）真空脱羟工艺：脱羟温度1050~1150℃，保温时间15~20h或更长，羟基含量可降到（1~3）×10-6或＜1×10-6，产品可用于金属卤化物灯制造。
脱羟时间常常会使产品变色，主要是因为石英玻璃铁含量太高的缘故。
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张浩 [销售经理]