用于制备均质玻璃、均质微晶玻璃和掺杂玻璃。由于重金属氧化物与玻璃形成氧化物密度的差异，融化过程中会引起熔体的分层；另外，重金属有较强的渗透性，对一般坩埚侵蚀性大，使铂坩埚中毒。因此，在熔制的过程中需采用搅拌措施并利用特种坩埚。均质微晶玻璃的制备需要采用特殊的热处理方法，以使晶体定向生长。二次熔融法是先将玻璃原料熔制成玻璃，，然后将半导体粉末或金属微粒和玻璃粉末混合均匀，在真空或保护气氛中进行二次熔融，从而制得掺杂玻璃。一般制备均质非线性光学玻璃均采用熔制法。用熔制法制备掺杂半体玻璃时，半导体化合物易分解而挥发，且较难控制微晶浓度、尺寸大小及分布均匀性。用此法制备掺杂金属玻璃则必须采用低熔点玻璃及基础玻璃成分，如掺Au要求氧化气氛并掺SnO₂,掺Ag要求中性气氛并掺微量Sb₂O₃、掺Cu要求还原气氛。

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