在线CVD制备硅质膜技术是以硅烷、乙烯为原料，浮法锡槽为制备硅质膜提供了适合的温度和还原性气氛。硅烷、乙烯和氮气按一定比例进入安置在玻璃板上面的反应器，并以稳定的层流方式流过玻璃板表面，这时，硅烷借助反应器的特殊结构，并在还原气氛的条件下，温度超过400℃时开始分解，形成产物是无定形硅，当温度超过600℃时，形成多晶硅。多晶硅沉积在玻璃表面形成硅质膜层，同时硅烷反应后产生的氢被乙烯吸附，生产乙烷和甲烷。这些多余气体和呈褐色的多余硅质粉一起从反应器两侧的排气孔排走，其化学反应式如下：

SiH₄→Si+H

C₂H₄+H→C₂O₆(或CH)

浮法玻璃在线镀硅质膜生产工艺示意图见4-19.

混合气体经由反应器以层流方式流向玻璃板，经过扩散、吸附、热分解和氢解吸附，从而在玻璃板上沉积形成多晶硅膜。

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